Electron Beam Direct-Write Lithography的意思|示意
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电子束直写光刻
Electron Beam Direct-Write Lithography的网络常见释义
电子束直写光刻 四、电子束直写光刻(EBL,Electron Beam Direct-Write Lithography)电子束的能+量越高,波长越短。一般为0.1nm。
Electron Beam Direct-Write Lithography相关短语
1、 EBL Electron Beam Direct-Write Lithography 电子束直写光刻
2、 direct write electron beam lithography 直写式电子束光刻