Electron Beam Projection Lithography的意思|示意

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电子束投影光刻

Electron Beam Projection Lithography的网络常见释义

投射式电子束微影术 ...ence Lithography 纳米级相位畸变光栅的新方法一一干涉光束扫描光刻 Electron Beam Projection Lithography 投射式电子束微影术 ; 电子束微影技术 Electron Beam Liquid Lithography 电子束液态曝光技术 ; 模板加工新方法一一电子束液态曝光技术 ..

电子束微影技术 ...纳米级相位畸变光栅的新方法一一干涉光束扫描光刻 Electron Beam Projection Lithography 投射式电子束微影术 ; 电子束微影技术 Electron Beam Liquid Lithography 电子束液态曝光技术 ; 模板加工新方法一一电子束液态曝光技术 ..

Electron Beam Projection Lithography相关短语

1、 projection electron beam lithography 投影电子束光刻

Electron Beam Projection Lithography相关例句

Mask fabrication is a key technique of scattering with angular limitation projection electron-beam lithography (SCALPEL).

掩模制作是电子束散射角限制投影光刻(SCALPEL)的关键技术。

The projection electron beam lithography with angular limitation(PEBL)is potentially one of the most attractive techniques for nano lithography in the21st Century.

具有角度限制的电子束投影曝光技术有可能成为21世纪最有潜力的纳米光刻技术之一。