PVD Physical Vapor Deposition的意思|示意

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物理气相沉积

物理气相沉积 CrN通常使用物理气相沉积(PVD physical vapor deposition)方法制备，特别是其中的直流磁控溅射技术能达到很高的沉积速率，但是要求靶材料必须是导体，而且在反应气体中容易形成导电性能差...

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