PVD Physical Vapor Deposition的意思|示意
物理气相沉积
PVD Physical Vapor Deposition的网络常见释义
物理气相沉积 CrN通常使用物理气相沉积(PVD physical vapor deposition)方法制备，特别是其中的直流磁控溅射技术能达到很高的沉积速率，但是要求靶材料必须是导体，而且在反应气体中容易形成导电性能差...
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PVD Physical Vapor Deposition相关短语
1、 physical vapor deposition PVD 物理气相沉积
PVD Physical Vapor Deposition相关例句
PVD (physical vapor deposition) or physical vapor deposition is widely used on the current international advanced surface treatment technology.
即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。
Suzhou Top coating co., LTD. adopts Dutch technology, Specializes in PVD (Physical Vapor Deposition) coating development research, provides high quality PVD coating service.
苏州鼎利涂层有限公司采用荷兰技术，专业从事物理气相沉积(Physical Vapor Deposition)技术的研发、设计、并提供优质的PVD涂层服务。