arc-plasma的意思|示意
电弧等离子体
电弧的等离子区
arc-plasma的用法详解
arc-plasma是一种用电弧模拟等离子体，是电弧流体力学模拟的一种技术。它可用于通过研究磁场结构在磁场变化时粒子动力学的行为和发动机的热机械特性，从而模拟复杂的等离子体流动。
arc-plasma的用法主要有：
一、研究电弧发展特性：用arc-plasma可以模拟等离子体发展过程，研究等离子体行为。
二、模拟等离子体火焰温度：arc-plasma可以模拟等离子体火焰温度，可以估算等离子体反应的能量以及提高温度的能量损失。
三、模拟电弧分子运动：arc-plasma可以模拟电弧分子运动，研究分子在电弧电场作用下的反应特性。
四、模拟离子吸附行为：arc-plasma可以模拟离子吸附行为，从而研究等离子体中离子组分如何影响电弧的发展。
arc-plasma模拟技术可以模拟电弧流体力学复杂系统，为研究和预报电弧等离子体流动提供重要依据。由于不同应用场景生成的实际电弧流等离子体具有不同的结构特性，因此arc-plasma模拟有助于提高等离子体流动的预测精度，从而改善电子发射装置的性能。
arc-plasma相关短语
1、 arc plasma 电弧等离子体,电弧等离子区
2、 dc arc plasma 直流电弧等离子体法
3、 spectra of cu arc plasma cu弧光谱
4、 temperature of cu arc plasma cu弧温度
5、 arc plasma torch 电弧等离子体炬,电弧等离子体发生器
6、 dc arc plasma evaporation 直流电弧蒸发,直流电弧等离子体蒸发
7、 ar arc plasma ar等离子体
8、 dc-arc plasma 直流电弧等离子体
9、 arc plasma gun 电弧等离子体喷枪
arc-plasma相关例句
Diamond films were deposited by means of the high current extended DC arc plasma CVD technique.
并在浸蚀过的硬质合金衬底上,用强电流直流伸展电弧等离子体CVD法沉积金刚石涂层.
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The nanometer tin powders were prepared by DC arc plasma evaporation a self - designed and fabricated apparatus.
采用高纯锡,通过 自行 设计的直流电弧等离子体蒸发设备制备了纯净的纳米锡粉.
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Diamond like carbon ( DLC ) films have been prepared on silicon by pulse arc plasma deposition.
利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜.
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The DC electric arc plasma method of increasing generation rate of ultrafine iron powder is studied.
研究了用直流电弧等离子体法连续制备超细铁粉及提高产率的方法.
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The calculated result of arc plasma temperature agrees fairly with the experiment.
数值模拟所得电弧等离子体温度分布与试验值相当吻合.
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Abstract Plasmas in Multi - Arc Ion Plating ( MAIP ) are made up of glow and arc plasma.
多弧离子镀中的等离子体是由辉光等离体和弧光等离子体迭加而成的.
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