controlled etching的意思|示意

美 / kənˈtrəuld ˈetʃɪŋ / 英 / kənˈtrold ˈɛtʃɪŋ /

可控刻蚀

英语单词controlled etching的用法讲解

controlled etching是指控制择蚀。在硅半导体工艺中，择蚀是指一种刻蚀工艺，通过控制多种参数来实现有序刻蚀。择蚀的参数主要是泄漏电流，工艺温度、温度升降率、清洗时间和流量，以及腐蚀时的燃料电流和流量等。

控制择蚀技术的基本原理是，采用一定的条件控制多变量，在一定的硅半导体模块中，当一个刻蚀工艺参量发生变化时，其他参数也将跟着发生变化。择蚀过程通常要有大量的参量，以及一系列操作步骤，因此，控制择蚀工艺参数变化是非常必要的，以实现有序刻蚀效果，防止不必要的刻蚀结果。

总之，controlled etching 技术是一种用来控制刻蚀工艺参数变化的有效技术，通过这种技术，可以实现电路细节的更精确的制造，而不会影响硅半导体模块的性能。