deep-etch process的意思|示意

美 / di:p etʃ ˈprəuses / 英 / dip ɛtʃ ˈprɑsˌɛs /

凹版腐蚀法


deep-etch process的用法详解

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深削工艺(deep-etch process)是一种常用的刻蚀技术,用于制造微型零件,如半导体芯片和微型传感器等。这种技术具有制作微型零件的可行性。

深削工艺的工作原理是,将一种薄膜置于一个基板上,然后通过电镀将薄膜上的材料细胞分解成柔性的零件,随后利用精确的刻蚀工具将其分解成更小的零件。

深削工艺主要用于制造半导体芯片、微型传感器、光传感器、微型器件及其它小型零件。此外,该技术还可用于机械制造、精密金属铸造和化学制药等领域。

深削工艺的优点是具有高精度、低成本、低能耗、耐磨性好等特点。在制造精密零部件的同时,还可以节省大量的时间和能源,从而有效减少产品制造成本。

因此,如今,深削工艺在微米零件、电子元件和其他精密零部件制造领域得到了广泛的应用。

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deep-etch process相关短语

1、 bimetal deep-etch process 双层平凹版法,制版法

2、 offset deep etch process 平凹版

3、 zinc deep-etch process 锌平凹版法

4、 two-layer deep-etch process 双层膜平凹版制版法