dry etching的意思|示意
干腐蚀
[电子] 干法刻蚀
dry etching的用法详解
英语单词dry etching（干刻）指的是用固体分子流体粒子在特定反应条件下分子束或电子束的共同作用，利用化学或物理的方式蚀刻材料表面技术。其将原材料切削成为指定尺寸及形状的产物，并可以阻挡一切腐蚀体的侵袭，具有高可靠性的精密加工技术。
dry etching可以用来处理高精度电子以及微加工加工中应用的特殊复杂形状的零件。它具有微细制造、低温制造和可缩短加工周期等优点，可以制造出具有微米级精度的物件及零件。通常，干刻技术可以分为激光刻蚀，离子刻蚀和电子束刻蚀等几种技术。
激光刻蚀技术是将激光的能量装入材料中，对材料产生热效应，使材料分解，从而实现几何形状的加工，是一种深刻精密加工技术。离子刻蚀技术是高速离子将原材料表面腐蚀，而电子束刻蚀技术则是通过高速电子束将原材料表面熔融，使表面变得光滑，从而实现精密加工。
dry etching技术在半导体、微机电系统、微电子技术、微通道等领域中有广泛应用，具有高精度、高效率、低成本等优点。
dry etching相关短语
1、 dry etching reactor 干腐蚀反应器
2、 dry etching apparatus 干腐蚀装置
3、 dry etching system 干式蚀刻系统,干蚀刻机,干法刻蚀设备
4、 ar ion beam dry etching ar离子束干法刻蚀
5、 dry etching acknowledgeor 干腐蚀反响器
6、 dry etching process 干法刻蚀,干法蚀刻工艺
7、 dry-etching 干法刻蚀
8、 ICP dry etching ICP干法刻蚀
dry etching相关例句
The principle and the main parameters of the dry etching for silicon dioxide are introduced.
摘要阐述了二氧化矽干法蚀刻的原理和主要的蚀刻参数.
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