etching mask的意思|示意

美 / ˈetʃɪŋ mɑ:sk / 英 / ˈɛtʃɪŋ mæsk /

蚀刻掩模


etching mask的用法详解

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etching mask(阳极蚀刻掩模),是一种带有特殊图案的高分子聚合物材料,通常应用于半导体制造等行业。它的作用是将晶片中的某些部分进行腐蚀或去除。例如,当沉积一层硅基化合物时,可以将阳极蚀刻掩模应用于硅层上,以便在位置附近腐蚀掉硅化物,使晶片的特定部分形成需要的形状。

阳极腐蚀掩模是去除晶片表面不需要的物质的有效方法,一般通过电流或离子来完成。在使用阳极腐蚀掩模时,应使用坚固、耐用、适当厚度的薄膜,并用双面胶粘贴在晶片上,以保证最佳的蚀刻效果。

由于阳极腐蚀掩模只在进行半导体制造时才会用到,一般人很少会有机会使用它。但无论如何,对于深入了解阳极蚀刻掩模的用途,以及如何有效使用它来实现更好的半导体制造结果,都非常重要。

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etching mask相关短语

1、 Printing Etching Mask 印刷蚀刻光罩

2、 Hard mask etching 硬掩模付蚀

3、 Etching g mask 抗蚀剂掩模

4、 etching apparatus mask 腐蚀掩膜

5、 mask etching 掩模套刻

6、 etching all-metal mask 腐蚀全金属掩模

7、 mask projection etching 投影直刻

8、 etching apparatus copper mask 浸蚀铜膜