photomask的意思|示意

美 / 'fəʊtəʊmɑ:sk / 英 / 'foʊtoʊmɑsk /

n. 光罩；[电子] 光掩模

摄影掩模（photomask）是一种用于半导体芯片制造的模板。它是一个平面玻璃或石英板，上面覆盖着一层光学透明的保存芯片路线图案的物质。具体来说，photomask就像是光学版的“底片”，在芯片制造过程中起到非常重要的作用。

在半导体芯片制造过程中，photomask的重要性在于它决定了芯片上电路的形状、大小和位置等等细节。制造photomask需要非常高的技术水平和精确度，因为每个掩模都必须准确地匹配芯片上的电路结构，而且制造过程中还要考虑光学的限制，确保图案的清晰和精度。

制造完毕的photomask通常被用于光刻（photolithography）的过程中。在这个过程中，光刻机（photolithography machine）将光线照射到photomask的表面上，通过掩膜上的图案引导光线照射到芯片上，最终形成电路结构。

总之，photomask是半导体芯片制造中不可或缺的一部分，它决定了芯片上电路的形状和位置，同时也需要非常高的技术水平和精确度。

1、 photomask set 光掩模组,光罩集

3、 metal photomask 金属光掩模

4、 custom photomask 定制光掩模

5、 emulsion photomask 乳胶光掩模

6、 intermediate photomask 中间掩模,掩模

8、 photomask copy 光掩模复印