planar implant的意思|示意
平面注入
planar implant的用法详解
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Planar implant是半导体制造领域中的一个术语，大多用于集成电路的制造中。在集成电路的制造过程中，planar implant是一种用于在硅晶片表面引入离子的方法。
具体来说，planar implant是将离子注入硅晶片的方法之一。在这种方法中，硅基材料通常被加工成一个平面，然后离子被注入到这个平面上。这些离子可以改变硅晶片的电学性质，从而实现不同的功能。例如，p型离子通常会增加硅晶片的电阻，而n型离子则会降低电阻。
Planar implant的用途包括改变硅晶片的电学性质，以及在集成电路中实现不同的功能。这种方法在半导体制造中非常常见，是实现集成电路高效、低成本制造的重要步骤之一。
总之，planar implant是半导体制造中的一个重要概念，它通过在硅晶片表面注入离子来改变硅晶片的电学性质，从而实现不同的功能。
'planar implant相关短语
1、 interstitial planar implant 释义组织内平面植入
2、 planar r implant 平面注入