plasma chemical vapor deposition的意思|示意
等离子化学气相沉积，等离子体化学汽相淀积
plasma chemical vapor deposition的用法详解
Plasma chemical vapor deposition是一种重要的材料制备方法，在半导体、电子学、材料科学等领域得到广泛应用。该技术利用高能离子、自由基等等等离子体反应沉积材料薄膜，该过程可通过控制制备条件，如反应气体配比、压力、射频功率等，来调控薄膜的结构、成分和性质。
其中，plasma指离子化气体，它通过电离电子和化学反应将气体转化为等离子体状态。而chemical vapor deposition指利用气相化学反应沉积材料的方法。因此，plasma chemical vapor deposition是通过等离子体化学反应沉积材料薄膜的技术。
在半导体行业，plasma chemical vapor deposition被广泛用于生产高质量的硅基晶体管、层状膜、电感器等器件。在电子学领域，该技术用于生产薄膜晶体管和LCD显示器。在材料科学领域，通过该技术生产出的钙钛矿薄膜、气凝胶等材料也得到了广泛的研究和应用。
在使用plasma chemical vapor deposition技术时，需要注意反应条件的控制，如提高气压可减小离子的能量，从而得到较小的薄膜粒子尺寸。此外，利用掺杂气体可改变薄膜的电学性质。通过精细控制反应条件，可制备出特殊结构和性质的薄膜，为科学家和工程师提供了更丰富的材料研究和应用发展方向。
plasma chemical vapor deposition相关短语
1、 wave plasma chemical vapor deposition 螺旋波等离子体化学气相沉积
2、 rf plasma chemical vapor deposition 射频等离子体辅助真空沉积的
3、 DC plasma chemical vapor deposition 直流等离子化学气相沉积法
4、 plasma chemical vapor deposition pcvd 等离子体化学气相沉积
5、 plasma chemical vapor deposition method 等离子体化学气相沉积法
6、 plasma chemical vapor deposition system 等离子体化学气相沉积系统
7、 magnetic plasma chemical vapor deposition 磁等离子体化学气相沉积
8、 microwave plasma chemical vapor deposition 过渡层
9、 plasma chemical vapor deposition technique 等离子体化学气相沉积技术
plasma chemical vapor deposition相关例句
The globe - like diamond microcrystalline aggregates were fabricated by microwave plasma chemical vapor deposition ( MPCVD ) method.
在覆盖金属钛层的陶瓷上,利用微波等离子体化学气相沉积 ( MPCVD ) 法制备出类球状微米金刚石聚晶薄膜.
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Carbon nanotube films were synthesized on Ni substrate by microwave plasma chemical vapor deposition at temperature.
以镍片为基板材料,利用微波等离子体化学气相沉积法在低温条件下合成了纳米碳管膜.
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