Chemical Mechanical Polishing的意思|示意

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n.化学机械平坦化

Chemical Mechanical Polishing的网络常见释义

化学机械抛光 ...：在电子制造行业,随着产品性能的不断提高,对表面质量的要求越来越高。抛光是表面平整化加工的重要手段。与现有的抛光技术相比,化学机械抛光(Chemical mechanical polishing,简称CMP)是目前广泛采用的并且是几乎唯一的全局平面化技术。

化学机械研磨 目前，化学机械研磨(Chemical Mechanical Polishing, CMP)是达成全局平坦化的最佳方法，尤其是在半导体制作工艺进入亚微米领域后，化学机械研磨已成为一项不可或缺的制作工艺技术。

技术 化学机械抛光技术（Chemical Mechanical Polishing,CMP）是目前最好的、也是唯一全局平面化技术，是超大规模集成电路成功的最为关键的技术。

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