RF-PECVD的意思|示意
RF-PECVD的网络常见释义
沉积 采用射频等离子体化学增强型气相沉积(rF-PECVD)法沉积了掺氮氟化非晶碳膜.研究了不同射频功率下薄膜样品表面形貌及I-U特性,比较了试样I-U曲线的对称性及零点漂移;分析了直接沉积...
气相沉积法 采用等离子增强型化学气相沉积法(RF-PECVD),源气体为NH3/SiH4/N2的混合气体,在330℃的温度下沉积a-SiNx∶H薄膜。
积法 ...备氮化硅薄膜主要有等离子增强型化学气相淀积法(PECVD)、低压化学气相淀积法(LPCVD)、射频等离子增强型化学气相淀积法(RF-PECVD)、光化学气相淀积法(光CVD)等等。等离子增强型化学气相淀积(PECVD)是目前较为理想和重要的氮化硅薄膜制备方法。
RF-PECVD相关短语
1、 rf PECVD 射频PECVD
2、 HF-RF-PECVD 相沉积
3、 DC-RF-PECVD 直流射频等离子增强化学气相沉积
RF-PECVD相关例句
Silicon nitride thin films were prepared onto steel substrates by radio-frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF-PECVD) technique.
采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF - PECVD)在钢衬底上沉积氮化硅薄膜。