ion beam deposition的意思|示意
离子束淀积
ion beam deposition的用法详解
'
英语单词\\"ion beam deposition\\"的使用方法讲解
\\"ion beam deposition\\"是一种物理气相沉积技术，也称为离子束沉积技术。这种技术利用离子束轰击固体表面，从而产生原子或分子的溅射，并在固体表面上形成一层薄膜。这种技术广泛应用于制造金属、半导体或光学材料的薄膜，以及在制造集成电路等微观器件方面的应用。
\\"ion beam deposition\\"的工作原理是通过将离子轰击固体表面，从而造成原子或分子的溅射。这些溅射原子或分子在过程中被离子束加速并沉积在固体表面上，进而形成一层薄膜。这个过程的优点是能够控制薄膜的厚度和成分，且在制造过程中不会造成薄膜结构的变形。
\\"ion beam deposition\\"的应用非常广泛，它可以用于制造金属、半导体和光学材料的薄膜，同时也可用于制造纳米、微米材料和光学模拟器件。此外，该技术还广泛应用于制造微电子器件，如电场发射型显示器、光伏太阳能电池等。
'ion beam deposition相关短语
1、 ion beam deposition equipment 离子束镀膜设备
2、 IBD Ion Beam Deposition 离子束淀积
3、 ion beam deposition technique 离子束沉积技术
4、 Ion beam deposition apparatus 发明名称
5、 dual ion beam deposition 双离子束淀积
6、 Assist Ion Beam Deposition 离子束辅助沉积
7、 Ion beam assisted deposition 离子束辅助沉积,离子束辅助沉积法,离子束辅助沉积技术,与离子束辅助沉积
8、 Ion Beam Enhanced Deposition 离子束辅助沉积,用离子束辅助沉积
9、 Ion Beam Sputter Deposition 子溅镀,离子束溅射沉积