ion beam etching的意思|示意
离子束蚀刻
ion beam etching的用法详解
英语单词 \"ion beam etching\" 的用法讲解
\"Ion beam etching\" 是一种利用离子束来刻蚀材料表面的技术。它是一种微纳加工技术，广泛应用于半导体加工、纳米制造、光学器件等领域。
Ion beam etching 的原理是通过将离子加速到高速度，形成一束高速离子束，使其能量足以穿透材料表面，并将材料表面上的原子或分子击碎脱离，从而实现对材料表面的刻蚀。这种技术在制造高精度和复杂形状的器件和结构方面具有很高的应用价值。
Ion beam etching 可以控制刻蚀速率、深度和表面质量，可以轻松地刻蚀出复杂的二维和三维图案。因此，它被广泛应用于微电子、纳米科技、生物医学、化学制备和纳米光学领域等各种领域。
总之，ion beam etching 技术以其高精度、高效率和可控性等特点，在微纳加工领域中具有重要的应用价值。
ion beam etching相关短语
1、 ion beam etching system 离子束蚀刻系统,离子束刻蚀系统,离子束
2、 focused ion-beam etching 子束蚀刻
3、 Reaction Ion Beam Etching 用不多
4、 ion-beam etching 离子束刻蚀
5、 ar ion beam etching 氩离子束刻蚀
6、 ion beam etching rate 离子束刻蚀速率
7、 argon ion beam etching 氩离子束刻蚀
8、 Ion Beam Etching system- 离子束刻蚀系统
ion beam etching相关例句
Ion beam etching (IBE) was applied to treat the as-polished surfaces of a CLBO crystal with varying in rotation speed of clamp, etching times and incidence angles.
本文研究了在不同作用时间、不同工件转速、不同入射角度等条件下离子束对CLBO晶体抛光表面的处理效果。
Abstract : Ion beam etching technologies for developing large aperture Diffractive Optical Elements (DOEs) were reviewed.
摘要 ： 总结了大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀技术的研究进展。
The 16-step Fresnel lens had been fabricated by thin film deposition and ion beam etching and it has been used in refractive-diffractive CCD camera.
使用薄膜沉积法和离子束刻蚀法制作16阶菲涅耳透镜，应用于折衍混合CCD相机。