physical vapour deposition的意思|示意

美 / ˈfizikəl ˈveipə ˌdepəˈzɪʃən / 英 / ˈfɪzɪkəl ˈvepɚ ˌdɛpəˈzɪʃən /

物理气相沉积

Physical vapour deposition(PVD) 是一种常用的物理沉积技术，它涵盖了多种手段，包括蒸发、离子束沉积以及磁控溅射。该技术常用于现代的材料科学和表面工程学中。

PVD技术的基本原理是将材料加热至高温，然后使其在真空下蒸发，从而将汽相材料转移到待沉积表面。沉积的材料原子以高速冲击待沉积表面并沉积在上面，形成薄膜。

该技术具有许多优点，例如，它可以制备具有高纯度、高致密度、高均匀性和高附着力的薄膜。此外，随着技术的不断发展，能够通过PVD技术在许多材料表面上制备出高质量的功能性材料层。这些功能包括反射率、机械硬度、耐腐蚀性等等。

PVD技术已经广泛应用于许多领域，包括半导体制造、太阳能电池、显示器、LED、防眩光材料等等。此外，它也被广泛应用于医疗器械、汽车和航空航天等工业领域。

总之，PVD技术在当前的现代技术中具有重要的地位，它不仅可以为现代工业的发展提供支撑，同时也为我们生活的方方面面带来了诸多便利。