physical vapor deposition的意思|示意

美 / ˈfizikəl ˈveipə ˌdepəˈzɪʃən / 英 / ˈfɪzɪkəl ˈvepɚ ˌdɛpəˈzɪʃən /

物理气相沉积

physical vapor deposition的用法详解

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Physical Vapor Deposition (PVD)是一种用于制备薄膜的技术，通常用于制备纯金属薄膜或金属合金薄膜。该技术利用高温或抽气的条件下将金属原料蒸发，并沉积在所需的基底上。

此技术广泛应用于各种工业应用中，如电子、能源、光学和航空等领域。使用PVD技术可以在薄膜表面加工成各种结构和形状，如纳米颗粒、网络结构、蜂窝状结构等，从而为材料的研究和应用提供了更多的可能性。

PVD技术还有着极高的制备效率和良好的稳定性，可在不同的基底上制备出稳定性较高的薄膜。同时，该技术还具有环保的特点，因为它不依赖于各种化学物质，减少了对环境的污染。

总之，PVD技术已经成为现代材料制备的一种重要方法，它为各种高新技术的发展提供了必要的支持，同时促进了工业制造的转型升级。

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