unbalanced magnetron sputtering的意思|示意
不平衡磁控溅射
unbalanced magnetron sputtering的网络常见释义
非平衡磁控溅射 非平衡磁控溅射(unbalanced magnetron sputtering,UBMS)技术作为一种新型的技术,通过附加的磁场,使阴极靶面的等离子体状态发生较大改变,从而不仅具有普通磁控溅...
采用非平衡磁控溅射 研究结果表明：1)采用非平衡磁控溅射(Unbalanced Magnetron Sputtering, UBMS)技术沉积DLC膜时,靶电流对界面层厚度的影响占主导地位；当靶基距从102mm增至162mm时,薄膜界...
unbalanced magnetron sputtering相关短语
1、 Closed-field unbalanced magnetron sputtering 闭合场非平衡磁控溅射
2、 ecr unbalanced magnetron sputtering ecr非平衡磁控溅射
3、 unbalanced magnetron sputtering system 非平衡磁控溅射系统
unbalanced magnetron sputtering相关例句
Graphitelike carbon film was deposited on silicon substrates by unbalanced magnetron sputtering.
利用非平衡磁控溅射技术在单晶硅基底上沉积了类石墨非晶碳膜。